Láminas delgadas de SiNx:H y SiOx depositadas mediante la técnica ECR-CVD para su aplicación en estructuras MIS [recurso electronico] / Silvia García Sánchez ; director Germán González Díaz, Ignacio Martil de la Plaza.
Tipo de material:
TextoEditor: Madrid : Universidad Complutense de Madrid, 1996Descripción: 343 pTema(s): Ciencias físicas | Física aplicada | Electricidad | Electrónica | Physics | Ciencias fisicas | Fisica aplicada | ElectronicaGénero/Forma: Libros electrónicos. Clasificación CDD: 530 Clasificación LoC:QC23 | G216 1996Recursos en línea: Haga clic para acceso en línea
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Universidad Complutense de Madrid. Facultad de Ciencias Físicas. Departamento de Física Aplicada III (Electricidad y Electrónica).
Recurso electrónico. Santa Fe, Arg.: e-libro, 2015. Disponible vía World Wide Web. El acceso puede estar limitado para las bibliotecas afiliadas a e-libro.
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