García Sánchez, Silvia. <br/><br/>
Láminas delgadas de SiNx:H y SiOx depositadas mediante la técnica ECR-CVD para su aplicación en estructuras MIS  [recurso electronico] / 
Silvia García Sánchez ; director Germán González Díaz, Ignacio Martil de la Plaza. 
 - Madrid :  Universidad Complutense de Madrid,  1996. 
 - 343 p. 
<br/><br/> Universidad Complutense de Madrid. Facultad de Ciencias Físicas. Departamento de Física Aplicada III (Electricidad y Electrónica). 
<br/><br/><br/>Recurso electrónico. Santa Fe, Arg.: e-libro, 2015. Disponible vía World Wide Web. El acceso puede estar limitado para las bibliotecas afiliadas a e-libro. 
<br/><br/><label>ISBN: </label>
<br/><br/><label>Subjects--Topical Terms: </label><br/>Ciencias físicas.<br/>Física aplicada.<br/>Electricidad.<br/>Electrónica.<br/>Physics.
<br/><br/><label>Subjects--Index Terms: </label>Ciencias fisicas Fisica aplicada Electronica 
<br/><br/><label>Index Terms--Genre/Form: </label><br/>Libros electrónicos.
<br/><br/><label>LC Class. No.: </label>QC23  / G216 1996 
<br/><br/><label>Dewey Class. No.: </label>530 
<br/><br/><label>Universal Decimal Class. No.: </label>621.38(043.2)